振动对高级浸没式光刻系统的影响

未使用STACIS®
在原始基座的弹性体或刚性版本上获得的最佳图案。

使用STACIS®
采用STACIS主动隔振实现的图案。

所示的45纳米线宽测试图案由Amphibian Systems制造的、安装在德克萨斯州奥斯汀的SEMATECH的高级浸没式光刻系统生成。图像之间的变化归因于地震振动对光刻过程的影响。所示图像使用扫描电子显微镜获得。

该工具最初安装在钢制和混凝土基座上，其钢制支撑结构包含商用弹性体隔振垫。该基座没有达到工具规定的振动标准，图案质量很差。

为了减少振动，弹性体垫被金属垫片有效地短路，从而形成了更加刚性的非共振结构，但这几乎没有改善图象质量。两种版本的基座都没有达到振动标准，图案质量仍然很差。

移除基座支撑结构并使用STACIS®主动压电消振系统进行改装。STACIS支架直接放在现有的基座下面。在STACIS上支撑该工具可以显著降低整体地震振动水平并达到制造商的地面振动规格。更重要的是，STACIS在图案质量方面取得了显著的进步。

不同配置的振动测量。工具规格：0.125密耳/秒 RMS。显示垂直轴数据。
绿色：弹性体隔振
白色：短路弹性体隔振
蓝色：STACIS隔振

*照片、图像和振动数据由Sematech提供。